半導體超純水介紹

半導體超純水介紹主要用于生產超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質標準及電子工業部電子級水水質標準。

訪問次數：2708    產品價格：面議    廠商性質：生產廠家    更新日期：2025-04-15

鍋爐補水 鍋爐給水泵

在鍋爐補水的軟化或除鹽過程中會用到離子交換或反滲透脫鹽設備。而水處理車間的生水（未處理的天然水）中帶有大量細菌和微量有機物，容易造成設備生物滋生和淤泥污堵，從而降低離子交換樹脂的交換容量和增加反滲透的透過壓力。

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UV超純水

UV超純水指需電子行業用水，其水中要去除細菌、泥沙、膠體、懸浮物、金屬這些導電雜質。其電阻率≥18MΩ/cm（25℃，EW-I）。

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HEBF系列中壓紫外線消毒器

HEBF系列中壓紫外線消毒器不僅有良好的消毒效果，還具備降解游泳濁水中的化合氯(氯胺和三鹵甲烷等附屬作用，能有效提高游泳池水質：而且具備低能耗、低成本、無二次污染、對環境無害等優點，

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半導體超純水

半導體超純水主要用于生產超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質標準及電子工業部電子級水水質標準。

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水光學紫外線技術 紫外線消毒器

水光學紫外線技術 作為城市供水系統的“后一公里”，二次供水也是導致城市供水水質污染的主要環節之一，其目前存在的管網老舊、設施老化、管材不符合要求、管理不規范等問題，對水質安全造成威脅。

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鍋爐補給水 鍋爐給水泵

在鍋爐補給水的軟化或除鹽過程中會用到離子交換或反滲透脫鹽設備。而水處理車間的生水（未處理的天然水）中帶有大量細菌和微量有機物，容易造成設備生物滋生和淤泥污堵，從而降低離子交換樹脂的交換容量和增加反滲透的透過壓力。

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電廠水處理 工業廢水處理設備

電廠水處理穩定性好，機械強度高，使用壽命長;系統操作簡便，運行穩定，維護費用低;生化處理可采用一體化污水處理設備，全過程可實現自動化控制。

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UV冷卻水 冷卻器

UV冷卻水是指用于做冷卻介質的水，在電廠中主要指在凝汽器中用于冷卻汽輪機排汽的水。

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TOC超純水設備

TOC超純水設備指需電子行業用水，其水中要去除細菌、泥沙、膠體、懸浮物、金屬這些導電雜質。其電阻率≥18MΩ/cm（25℃，EW-I）。

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集成電路超純水 超純水設備

集成電路超純水，Onyx環境作為國內優質的紫外設備供應商，自主研發、生產符合美國ASTM超純水水質標準及電子工業部電子級水水質標準的超純水處理設備。

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UV光芬頓 工業廢水處理設備

安力斯最新研發的Photo-Fenton光芬頓高級氧化技術，通過對光源、結構、流態、光化學工藝等技術創新，將光量子化學理論與實踐引入芬頓工藝，研發了大型集成化的光芬頓催化氧化技術與成套設備，落地了國內萬噸級光芬頓制藥廢水處理項目，不僅能減少50%的藥劑成本，而且可以減少80%的污泥產量，從而使芬頓技術進入到了一個全新的發展階段。

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光催化高級氧化 高濃度廢水處理設備

光催化高級氧化技術原理：在紫外線激發下H2O2可產生具有很強氧化性的羥基自由基，可將有機污染物最終礦化為CO和H2O，其中間產物具有較多含氧官能團， 有效提高了廢水的可生化性。

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毒性去除 高濃度廢水處理設備

去除生物毒性，當需處理的廢水中毒物濃度超過允許范圍時，須采取適當的工程措施加以解決、否則廢水生物處理設施無法正常運行或啟動。

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TOC降解 超純水設備

TOC降解，Onyx環保作為國內優質的紫外設備供應商，自主研發、生產符合美國ASTM超純水水質標準及電子工業部電子級水水質標準的超純水處理設備。將UV去離子技術應用于腔體式水處理設備，現全新推出應用于微電子行業超純水工藝中的重磅新品。

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